




今天和大家分享的是氦質譜檢漏儀的相關知識,希望對您有所幫助!
氦質譜檢漏方法在真空檢漏技術領域里已經(jīng)得到廣泛的應用,這種方法的優(yōu)點是:檢漏靈敏度高,可以檢漏到10-11Pam3/s 數(shù)量級,儀器響應快,氦分子在儀器高真空的環(huán)境中擴散的速度很高;所以氦質譜檢漏儀在許多領域里得到廣泛的應用,例如,在航空航天領域里宇宙飛船、航天飛機、火箭、飛機等這些都要用到真空檢漏技術。在一般工業(yè)領域里原子能、發(fā)電廠、配電站、合成氨的氮肥生產(chǎn)廠、汽車制造業(yè)、造船工業(yè)、制冷工業(yè)、冶金工業(yè)、輸氣管道、氣罐、油罐、鍋爐快餐食品包裝等都離不開檢漏問題,同樣在導1彈武1器裝備中也離不開檢漏,導1彈彈體、燃料儲備罐、燃料運輸管道、彈頭、特殊部件的密封性都要用到氦質譜檢漏,本文主要真對氦質譜檢漏原理及方法進行綜述。這一檢漏方式是基于分子泵對不同質量的氣體具有不同壓縮比(氣體在分子泵出氣口壓強與進氣口壓強之比)即利用不同氣體的逆擴散程度不同程度而設計的。
氦質譜檢漏儀的原理
氦質譜檢漏儀一般由質譜管,真空系統(tǒng)和電子系統(tǒng)組成。其中質譜管包括離子源,質量分析器和離子檢測器; 真空系統(tǒng)一般由分子泵、機械泵、電磁閥和真空計組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束,以一定能量注入質分析器,
目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質分析器的作用起將各類離子按其質荷比的不同實現(xiàn)分離。
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氦質譜檢漏儀的應用拓展
氦質譜檢漏儀的應用已從科學院、大專院校、實驗室及少數(shù)科研機構走向工礦企業(yè),甚至鄉(xiāng)鎮(zhèn)企業(yè)、個體企業(yè),可以說應用領域極其寬廣。
航空航天高科技工業(yè)
1)例如火箭發(fā)動機及姿態(tài)發(fā)動機,過去是打壓刷肥皂水檢漏,現(xiàn)在重新改進工藝用氦質譜檢漏儀檢漏,采用正壓吸槍與氦罩法結合,使檢漏靈敏度大大提高,從而保證了發(fā)動機質量?;鸺w的檢漏采用正壓吸槍、氦罩法、累集法等幾種方法的結合。當被檢件密封面上存在漏孔時,示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會從漏孔泄出,泄漏出來的氣體進入氦質譜檢漏儀后,由于氦質譜檢漏儀的選擇性識別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號值。由于檢漏技術的應用,提高了檢漏靈敏度,彌補了吸入法檢漏時儀器靈敏度低的不足。
2)KM6空間環(huán)模裝置設備龐大,主真空室直徑12m、高22m,另外有輔助真空室和載人艙等。容積3500m3,分系統(tǒng)多,結構復雜,各種接口焊縫相加有幾千米長,采用氦質譜檢漏儀負壓檢漏,每條焊縫由檢漏盒密封,配以鋪助抽氣系統(tǒng)將盒內(nèi)抽低真空后,充入一定壓力氦氣,關閉預抽閥,開啟檢漏閥。真空法氦質譜檢漏采用真空法檢漏時,需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當被檢產(chǎn)品表面有漏孔時,氦氣就會通過漏孔進入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進入氦質譜檢漏儀,從而實現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測量。由于盒內(nèi)氦濃度較高,相對檢漏儀又有一定壓力,因此有效提高了檢漏靈敏度。
3)航天工業(yè)中,衛(wèi)1星、各類閥門、電子元器件,傳感器等等都在廣泛應用氦質譜檢漏儀及其檢漏技術。
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氦質譜檢漏儀故障與處理
(1)內(nèi)部的密封結構
當檢漏儀內(nèi)部存在泄漏時,會對檢漏工作造成較大干擾,容易造成誤檢、誤判。 檢漏儀內(nèi)部主要的密封部位在檢漏儀的后側(見圖2),位于隔熱板的上方:①檢漏儀測試口與閥門組塊的連接部位,密封方式采用膠灌密封,檢漏儀在運輸過程中如遇到強烈震動,此處容易造成密封膠開裂。②各電磁閥與閥門組件間的連接部位。密封方式采用氟橡膠圈或金屬墊片密封,橡膠圈的密封壽命有限,使用5 年以上時,有可能會存在密封失效的問題。4、如果探頭本身也臟,可浸入像酒精等溫和清洗劑幾秒鐘,然后用壓縮空氣或工業(yè)毛巾清潔,嚴禁用像礦物油等溶劑,這樣易降低儀器靈敏度。③各零部件接口處的密封部位。如放大器與質譜室、離子源與質譜室、分子泵與質譜室、標準漏孔與閥門組件、真空計與閥門組件等接口間的金屬墊片密封或橡膠圈密封。
(2)定位方法
采用噴吹法對各密封部位的氣密性進行檢測,因檢漏儀內(nèi)部結構緊湊,各密封結構間的距離很近,檢測時定位難度較大。經(jīng)摸索,在檢測時采用以下技巧,可提高定位的能力:①查漏前,先將分子泵風扇的電源斷開,避免風扇將氦源吹散至各個密封環(huán)節(jié),造成定位不準確。②噴吹時,要嚴格控制氦源的流量,盡量采用噴槍咀流量小的噴槍,提高定位的能力。氦質譜檢漏儀主要由質譜室、真空系統(tǒng)組件和電子學控制元件三大部分組成。③儀器的反應時間小于1 s,所以在一個部位噴吹的時間約3 s,再等待約3 s 后觀測信號有無變化。
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